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組織解析ユニット (8号館南 3F-1/2)

公開設備(機器)の詳細
組織解析ユニット (8号館南 3F-1/2)

※学外・企業による産業利用の場合は管理者までお問い合わせください。
※2017年9月現在の情報です。
※リサーチコアセンター申請手続きが必要です。


実体顕微鏡(付CCD カメラ)

カテゴリー型名メーカー
実体顕微鏡SMZ1000Nikon
概要・性能
実体顕微鏡にデジタルカメラ (ニコンDS-Fi1-L2) を組み合わせた機種で 小型の生物試料や材料表面の画像をデジタルで取得できる。
仕様
2008年設置

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:なし
基本料金

ウルトラミクロトーム ウルトラカット N

カテゴリー型名メーカー
ウルトラミクロトームウルトラカット NLeica
概要・性能
微鏡観察のための超薄切切片作製装置
樹脂包埋の超薄切をすることができる。
仕様

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:200円/時間
基本料金

ウルトラミクロトーム ウルトラカット S

カテゴリー型名メーカー
ウルトラミクロトームウルトラカットSLeica
概要・性能
微鏡観察のための超薄切切片作製装置
樹脂包埋および凍結標本の超薄切をすることができる
仕様
1995年設置
 付属装置:凍結切片作成システム(ライカFCS)
 仕様:切削スピード0.05-100mm/sec
    自動超薄切試料送り0-95nm

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:500円/時間
基本料金

ウルトラミクロトーム ウルトラカットEMUC7

カテゴリー型名メーカー
ウルトラミクロトームウルトラカットEMUC7Leica
概要・性能
透過型電子顕微鏡などで求められる高度な超薄切片の作製が可能
タッチパネル式コントロールユニット
仕様
•切削厚:1nm~15µm
•切削スピード:0.05~100mm/s

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:500円/時間
基本料金

臨界点乾燥装置

カテゴリー型名メーカー
臨界点乾燥装置HCP-2Hitachi
概要・性能
液化炭酸ガスを用いて臨界点乾燥を行うことが出来る。
走査型電子顕微鏡試料作製の時に使用。
仕様
•圧力:150Kg/cm^2
•温度設定範囲:-10~ 40℃

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:500円 / 回
基本料金

イオンスパッタリングおよびカーボンコーター

カテゴリー型名メーカー
E102Hitachi
概要・性能
走査型電子顕微鏡試料の表面にメタルコーティング (Pt-Pd合金、Pt) およびカーボンコートを行う際に使用する。
親水化処理を行うこともできる。
仕様
•ターゲット:Pt-Pdリング状
•膜厚:30Å / min

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:200円 / 回
基本料金

オスミウムコーター

カテゴリー型名メーカー
オスミウムコーターOPC80 Filgen
概要・性能
走査型電子顕微鏡試料の表面にオスミウムコートを行う際に使用
仕様
•生成膜厚:4nm

利用対象者・利用料金学内
利用の可否※
利用者による測定:500円 / 回
基本料金