分子発生学分野担当教授候補者の公募について

平成19年5月29日

東京医科歯科大学大学院医歯学総合研究科（歯学系）
顎顔面頸部機能再建学系専攻顎顔面機構制御学講座
分子発生学分野担当教授候補者の公募について

東京医科歯科大学
　大学院医歯学総合研究科長

　謹啓　時下益々ご清祥のこととお慶び申し上げます。
　このたび、本学大学院医歯学総合研究科では、顎顔面頸部機能再建学系専攻顎顔面機構制御学講座分子発生学分野の江藤一洋教授が、平成1９年3月31日付で定年退職しましたので、下記の要領にて後任教授候補者を公募することになりました。奮ってご応募くださいますよう宜しくお願い申し上げます。
　なお、本学大学院医歯学総合研究科（歯学系）では、任期制（5年・再任可）を採用しておりますことを申し添えます。

敬白

記

応募資格
　頭蓋顎顔面口腔の発生学の領域において卓越した研究能力・業績をもち、顎顔面口腔における機能の維持改善のための基礎的基盤を提供できる研究を遂行する方。
　更に、その優れた研究業績と深い学識を有し、大学院生および歯学部学生に対し発生学の講義・実習などを担当できる方。

提出書類（様式は以下からダウンロードしてください）

1)	経歴書（別紙様式1）	1部	WORD形式（29KB）	PDF形式（55KB）
2)	研究業績目録（別紙様式2）	1部	WORD形式（27KB）	PDF形式（58KB）
3)	論文別刷主要原著論文（10編）及び総説・著書（5編）の別刷又はコピー			各1部
4)	主要原著論文の内容の概要（別紙様式3）
4)		1部	WORD形式（25KB）	PDF形式（52KB）
5)	過去10年間の研究助成金の採択状況（別紙様式4）
5)		1部	WORD形式（25KB）	PDF形式（55KB）
6)	現在までの教育・研究・臨床活動の概要（別紙様式5）
6)		1部	WORD形式（20KB）	PDF形式（48KB）
7)	教育・研究・臨床等に関する抱負（別紙様式6）
7)		1部	WORD形式（20KB）	PDF形式（48K8）
8)	推薦書（必ずしも必要としない）
8)		1部

選考方法
　提出書類及び本学独自の調査に基づいて選考を行います。面談、プレゼンテーションのために来学いただくこともありますので予めご了承ください。

提出期限
　平成19年7月27日（金）当日消印有効

提出先
　〒113-8549　東京都文京区湯島1-5-45
　　　東京医科歯科大学
　　　　大学院医歯学総合研究科副研究科長
　　　　歯学部長　　　　田上　順次　宛（書留）

　受付は郵送（書留）のみといたします。
　封筒の表に「分子発生学分野教授候補者公募書類」と朱書きしてください。

問い合せ先

東京医科歯科大学人事部人事課人事第三掛
電話　03-5803-5407（ダイヤルイン）
E-mail：m.shibuya.adm@cmn.tmd.ac.jp

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