電子顕微鏡室紹介

機器分析センター・電顕室

機器分析センター・電顕室には透過電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、光学顕微鏡が設置されており。形態観察、元素分析、構造解析が出来ます。
また当センターにはウルトラミクロトーム、クリオスタットと各種コーターが設置されており試料作製が出来ます。
利用されるにあたっては電話またはメールで下記の担当者にお問い合わせ下さい

担当者：市野瀬志津子
　　　　河村裕子
E-mail:ichinose.bioa@tmd.ac.jp
TEL：03-5803-5792
FAX：03-5803-0232

機器の説明

電子顕微鏡

1. 透過電子顕微鏡(日立H-7100型)
　1995年製造、設置
　性能：加速電圧25－125kV
　　　　倍率50－600,000倍
　　　　分解能0.2nm

　高コントラスト高精細のTEM画像をフィルムで撮影できる。
2010年度CCDカメラ設置予定
2. 透過電子顕微鏡(日立H-7100型)
　1995年製造　2005年機器分析センターに移設
　性能：加速電圧25－125kV
　　　　倍率50－600,000倍
　　　　分解能0.2nm
　付属装置：AMT社製CCDカメラ
　(AMT Advantage-HS、2007年設置)

　CCDカメラを使って高コントラストのTEM画像をデジタルで取得できる。

3. 透過電子顕微鏡(日本電子JEM-1010型)
　1997年製造　2001年機器分析センターに移設
　性能：加速電圧40－100kV
　　　　倍率50－600,000倍
　　　　分解能0.2nm

　TEM画像を明るく高コントラストで観察、撮影できる。
4. 走査電子顕微鏡(日立S-4500型　電界放射型)
　1997年製造、設置
　性能：分解能1.5nm(加速電圧15kV)
　　　　分解能4.0nm(加速電圧1kV)
　　　　倍率20－500,000倍
　付属機器：YAG型反射電子検出器
　　　　　　エネルギー分散型X線分析装置(堀場EMAX-7000)
　　　　　　PCIデジタル画像取り込み装置

　高分解能のSEM画像をデジタルで撮影することが出来る。
　組成イメージを撮影することができる。
　YAG形反射電子検出器を用いて免疫電顕像を観察、撮影することができる。
　エネルギー分散型X線分析装置(EDS)を用いて試料の成分、組成の定性、定量分析　およびSEM画像上での点分析、線分析、マッピングを行うことができる。

光学顕微鏡

1.オリンパス正立顕微鏡(オリンパスBX41)
　2002年設置
　付属装置：落射蛍光システム
　　　　　　CCDカメラ(オリンパスDP70)

　高精細、高コントラストの光学顕微鏡像及び蛍光顕微鏡像をデジタルで取得できる。
2.ライカ位相差顕微鏡(ライカDMI3000B)
　2007年設置
　付属装置：CCDカメラ(オリンパスDP70)

　高精細、高コントラストの位相差顕微鏡像をデジタルで取得できる。

3.ニコン実体顕微鏡(ニコンSMZ1000)
　2008年設置

　実体顕微鏡にデジタルカメラ(ニコンDS-Fi1-L2)を組み合わせた機種で小型の生物試料や材料表面の画像をデジタルで取得できる。

試料作製装置

1.ウルトラミクロトームA(ライカウルトラカットS)
　1995年設置
　付属装置：凍結切片作成システム(ライカFCS)
　仕様：切削スピード0.05-100mm/sec
　　　　自動超薄切試料送り0-95nm

微鏡観察のための超薄切切片作製装置
　樹脂包埋はもとより、液体窒素自動供給装置を用いて－18℃の環境で凍結標本も超薄切できる
2.ウルトラミクロトームB(ライカウルトラカットOmU4)

　透過電子顕微鏡観察のための超薄切切片作製装置

3.臨界点乾燥装置(日立ECP-2)

　走査電子顕微鏡試料の乾燥に用いる。
　液化炭素ガスを用いた臨界点乾燥ができる。
4.イオンコーター1(日立E102)

　走査電子顕微鏡観察試料表面にPt-Pd合金またはPtのコーティングを行う装置
　親水化処理も出来る。

5.イオンコーター2(エイコー1B-5)

　走査電子顕微鏡観察試料表面にPt-Pd合金またはPtのコーティングを行う装置
　親水化処理も出来る。
6.オスミウムコーター
(フィルジェン　オスミウムプラズマコーター)

　走査電子顕微鏡観察試料表面に0-4nmのオスミウム膜を生成する装置。
　免疫SEM、EDS用試料に用いる。

7.真空蒸着装置(日立HUS-5GB)

　透過電子顕微鏡および走査電子顕微鏡観察試料の導電性を改善するために用いる装置で、主にカーボン蒸着を行う。
8.クリオスタット(ライカCM1900)
　1995年設置
　凍結チャンバー温度0-30℃、切片厚1-60μm　自動霜取をそなえる。

　高品質な凍結切片を作製できる。

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電子顕微鏡
1. 透過電子顕微鏡(日立H-7100型) 　1995年製造、設置　性能：加速電圧25－125kV 　　　　倍率50－600,000倍　　　　分解能0.2nm 　高コントラスト高精細のTEM画像をフィルムで撮影できる。 2010年度CCDカメラ設置予定		2. 透過電子顕微鏡(日立H-7100型) 　1995年製造　2005年機器分析センターに移設　性能：加速電圧25－125kV 　　　　倍率50－600,000倍　　　　分解能0.2nm 　付属装置：AMT社製CCDカメラ　(AMT Advantage-HS、2007年設置) 　CCDカメラを使って高コントラストのTEM画像をデジタルで取得できる。

3. 透過電子顕微鏡(日本電子JEM-1010型) 　1997年製造　2001年機器分析センターに移設　性能：加速電圧40－100kV 　　　　倍率50－600,000倍　　　　分解能0.2nm 　TEM画像を明るく高コントラストで観察、撮影できる。		4. 走査電子顕微鏡(日立S-4500型　電界放射型) 　1997年製造、設置　性能：分解能1.5nm(加速電圧15kV) 　　　　分解能4.0nm(加速電圧1kV) 　　　　倍率20－500,000倍　付属機器：YAG型反射電子検出器　　　　　　エネルギー分散型X線分析装置(堀場EMAX-7000) 　　　　　　PCIデジタル画像取り込み装置　高分解能のSEM画像をデジタルで撮影することが出来る。　組成イメージを撮影することができる。　YAG形反射電子検出器を用いて免疫電顕像を観察、撮影することができる。　エネルギー分散型X線分析装置(EDS)を用いて試料の成分、組成の定性、定量分析　およびSEM画像上での点分析、線分析、マッピングを行うことができる。

光学顕微鏡
1.オリンパス正立顕微鏡(オリンパスBX41) 　2002年設置　付属装置：落射蛍光システム　　　　　　CCDカメラ(オリンパスDP70) 　高精細、高コントラストの光学顕微鏡像及び蛍光顕微鏡像をデジタルで取得できる。		2.ライカ位相差顕微鏡(ライカDMI3000B) 　2007年設置　付属装置：CCDカメラ(オリンパスDP70) 　高精細、高コントラストの位相差顕微鏡像をデジタルで取得できる。

3.ニコン実体顕微鏡(ニコンSMZ1000) 　2008年設置　実体顕微鏡にデジタルカメラ(ニコンDS-Fi1-L2)を組み合わせた機種で小型の生物試料や材料表面の画像をデジタルで取得できる。

試料作製装置
1.ウルトラミクロトームA(ライカウルトラカットS) 　1995年設置　付属装置：凍結切片作成システム(ライカFCS) 　仕様：切削スピード0.05-100mm/sec 　　　　自動超薄切試料送り0-95nm 微鏡観察のための超薄切切片作製装置　樹脂包埋はもとより、液体窒素自動供給装置を用いて－18℃の環境で凍結標本も超薄切できる		2.ウルトラミクロトームB(ライカウルトラカットOmU4) 　透過電子顕微鏡観察のための超薄切切片作製装置

3.臨界点乾燥装置(日立ECP-2) 　走査電子顕微鏡試料の乾燥に用いる。　液化炭素ガスを用いた臨界点乾燥ができる。		4.イオンコーター1(日立E102) 　走査電子顕微鏡観察試料表面にPt-Pd合金またはPtのコーティングを行う装置　親水化処理も出来る。

5.イオンコーター2(エイコー1B-5) 　走査電子顕微鏡観察試料表面にPt-Pd合金またはPtのコーティングを行う装置　親水化処理も出来る。		6.オスミウムコーター (フィルジェン　オスミウムプラズマコーター) 　走査電子顕微鏡観察試料表面に0-4nmのオスミウム膜を生成する装置。　免疫SEM、EDS用試料に用いる。

7.真空蒸着装置(日立HUS-5GB) 　透過電子顕微鏡および走査電子顕微鏡観察試料の導電性を改善するために用いる装置で、主にカーボン蒸着を行う。		8.クリオスタット(ライカCM1900) 　1995年設置　凍結チャンバー温度0-30℃、切片厚1-60μm　自動霜取をそなえる。　高品質な凍結切片を作製できる。